J Endod：壳聚糖羟磷灰石前体纳米复合物条件处理牙本质对界面特性的影响
2019-10-14 lishiting MedSci原创
这篇研究的目的是通过飞行时间二次离子质谱法评估壳聚糖-羟基磷灰石前体(C-HA)纳米复合物的条件处理对硅酸三钙封闭剂-牙本质界面化学修饰的作用。
这篇研究的目的是通过飞行时间二次离子质谱法评估壳聚糖-羟基磷灰石前体(C-HA)纳米复合物的条件处理对硅酸三钙封闭剂-牙本质界面化学修饰的作用。
研究对人前磨牙根牙本质片进行预备、脱矿并随机分为对照和C-HA纳米复合物条件处理组。应用硅酸三钙封闭剂，并将牙本质片置于100%湿度环境下10天。暴露横截面区域，分别通过飞行时间二次离子质谱法和透射电子显微镜对封闭剂-牙本质界面进行化学/超微结构评估。
化学分析结果显示，条件处理C-HA纳米复合物后，在牙本质表面在封闭剂-牙本质界面以及牙本质表面下存在富含大量磷酸盐(PO2-， PO3-， and PO4-)， hydroxide (OH-)和壳聚糖片段(C2H4NO-， C3H4NO2-， C2H5O2+， C2H6NO+， C4H6NO2+， C5H6NO+， and C5H5O2+)的离子层。相反，在对照组中，界面内的钙离子(Ca+)和磷酸钙(CaPO2+， CaPO3+， CaPO4+， and Ca2PO3+)明显减少，并且未检测到磷酸盐片段。超微结构分析结果显示，对照组中界面层(<1 μm)矿化中断，而条件处理组中牙本质形成连续的矿化层(5 μm)。
结论：在应用硅酸三钙前对牙本质施以C-HA条件处理会通过富含磷酸盐、钙离子、磷酸钙和壳聚糖的离子层对牙本质表面下改性，从而对牙本质表面/表面下层进行化学修饰。
原始出处：
Hashmi A， Sodhi RNS， et al. Interfacial Characterization of Dentin Conditioned with Chitosan Hydroxyapatite Precursor Nanocomplexes Using Time-of-flight Secondary Ion Mass Spectrometry. J Endod. 2019 Oct 5. pii： S0099-2399(19)30625-9. doi： 10.1016/j.joen.2019.08.011.
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